產品說明
商品說明：表面酸窒化機台XORS為利用FOI最新技術、具備可處理300mm Wafer的Balanced ICP Plasma源之Silicon Wafer表面酸窒化機台。融合了高密度Balanced ICP Plasma源、與超高清潔度Process Chamber及陶瓷製電纳( Susceptance )、達到形成面内均一性０．５％～１．０％、平均膜厚２０Angstrom以下的酸窒化膜。將XORS應用於記憶體電線等工程上、可以使Yield Rate產生戲劇化的改善。另外、也能夠完全處理FA(GEM、GEM300)。