亞樹Sputter采連續（In–line）生產，具有高產量之特性，尚有以下優點： 1.維修容易設備維護成本低，時間短。 2.大面積鍍膜均勻性高（＜±5％）。 3.靶材利用率高（＞40％）。 4.可廣泛應於光學抗反射膜，金屬薄膜之鍍制。 5.多磁控源選擇 –金屬磁控源 –ITO磁控源 –AZO磁控源 –RF磁控源