公司簡介
本公司成立於民國94年，為一專業從事特殊氣體銷售及技術服務之公司，代理日韓美國等特殊氣體，提供各類混合氣體、高純度氣體、標準氣體，市場服務對象涵蓋半導體、太陽能、光電、生化、石化、醫療及一般工業用等. 本公司已取得 ISO 9001:2000 認證，並提供符合國家安全標準之各類氣體容器及鋼瓶予客戶使用。
營業性質
- 營業性質：
- 通路商、代理商
- 產業類別：
- 石油及製品、其他未分類
- 主要商品服務：
- Ⅰ.半導體製程高純特殊氣體 (High Purity Gases Processes for Semiconductor Fabrication):
*蝕刻氣體 (Etchant Gases)
以鹵化物及鹵碳化合物為主:
Chlorine (Cl2)、Hydrogen Chloride (HCl)、Hydrogen Fluoride (HF)、Hydrogen Iodide (HI)、Hydrogen Bromide (HBr)、Boron Trichloride (BCl3)、Nitrogen Trifluoride (NF3 )、Sulfur Hexafluoride (SF6 )、Halocarbon-14 (CF4)、Halocarbon- 23 (CHF3)、Halocarbon-116 (C2F6)、Halocarbon-318 (C4F8) 等
*離子植入氣體 (Dopant Gases)
含硼 (B)、磷 (P)、砷 (As)等III/V族原子之氣體:
Phosphine (PH3)、Arsine (AsH3)、Diborane (B2H6)、Boron Trifluoride (BF3)、Boron-11 Trifluoride (B¹¹F3)、Boron Tribromide (BBr3)、Phosphorus Pentafluoride (PF5)、Phosphorus Trifluoride (PF3)、Indium Iodide (InI) 等
*矽族氣體 (Silicon Precursor Gases)
含矽 (Si) 或 鍺 (Ge) 之甲乙基烷類:
Silane (SiH4)、Disilane (Si2H6)、Dichlorosilane (SiH2Cl2, DCS)、Trichlorosilane (SiHCl3, TDC)、Silicon Tetrachloride (SiCl4)、Silicon Tetrafluoride (SiF4)、Germane (GeH4)、Germane Tetrafluoride (GeF4) 等
*反應性氣體 (Reactant Gases)
以碳系及氮氫、氮氧化物為主:
Carbon Monoxide (CO)、Carbon Dioxide (CO2)、Nitric Oxide (NO)、Nitrous Oxide (N2O)、Ammonia (NH3)、Propylene (C3H6)、Ethylene (C2H4)、Acetylene (C2H2 ) 等
*超高純度氣體 (Ultra High Purity Gases)
純度達99.9999%以上之單一高純氣體, 鋼瓶裝CGA/DISS Valve:
Hydrogen (H2)、Helium (He)、Nitrogen (N2)、Argon (Ar)、Oxygen (O2)
*反應室潔淨氣體 (Chamber Clean Gases)
SF6、NF3、CF4、C2F6、C3F8、C4F8、H2/N2 等
Ⅱ.太陽能/LED製程高純氣體與化學品 (High Purity Gases & Chemicals Processes for Solar/LED Fabrication):
*高純度化學品 (High Purity Chemicals)
- Tetraethylorthosilicate (TEOS)
- Triethoxyarsine (TEOA)
- Trimethylaluminum (TMAl)
- Trimethylboron (TMB) & Mixtures
- Trimethylgallium (TMGa)
- Trimethylindium (TMIn)
- Diethylzinc (DEZn) & Mixtures
- Phosphorus Oxychloride (POCl3)
- Bis (cyclopentadienyl) Magnesium (Cp2Mg)
- Indium Chloride (InCl3)
*高純度光源稀有氣體 (Lighting Pure Rare Gases)
純度達99.999%以上之 Argon、Neon 、Krypton、Xenon
Ⅲ.特殊混合氣體 (Specialty Mixtures)
*製程混合氣體 (Process Mixtures):
- Arsine Mixtures (AsH3 in He, H2, Ar, N2)
- Diborane Mixtures (B2H6 in He, H2, Ar, N2)
- Germane Mixtures (GeH4 in He, H2, Ar, N2)
- Phosphine Mixtures (PH3 in He, H2, Ar, N2, SiH4)
- Silane Mixtures (SiH4 in He, H2, Ar, N2)
- Disilane Mixtures (Si2H6 in He, H2, Ar, N2)
- Halocarbon-14/Oxygen Mixtures:
Plasma Etching (4-8%O2/CF4), Plasma Desmearing(20-30%CF4/O2)
- Hydrogen Selenide Mixtures (H2Se in He, H2, Ar, N2)
- Boron Trichloride Mixtures (BCl3 in He, N2)
- Oxygen/Helium(6N) Mixtures (O2/He)
- Hydrogen Mixtures (H2 in N2, Ar)
*製程標準氣體 (Process Standards):
依客戶製程需求配製 ppm 或 % 之標準氣體, 分一級標準 (Primary Standard)、二級標準 (Certified Standard) 及依重量法配製未分析之重量法標準 (Gravimetric Standard) 等規格。
*鹵素激光鐳射混合氣體 (Halogen Excimer Laser Mixtures):
- %Fluorine(F2) in He, Ar, Ne, Kr, Xe
- %F2+%Ar in He, Ne、%F2+%Kr in He, Ne、%F2+%Ar+%Ne/He、%F2+%Ar+%He/Ne
- %HCl in He, Ne、%HCl+%H2 in He, Ne、%HCl+%H2+%Xe/Ne
*鐳射混合氣體 (Laser Gas Mixtures):
- Helium-Neon Laser Gas Mixtures: %Ne/He、%Ar+%He/Ne
- Ion Laser Gas Mixtures: %Ar/Kr
- Molecular Laser gas Mixtures:
%CO2+%N2/He、%CO+%CO2+%N2/He、%H2+%CO+%CO2+%N2/He
*Gas Mixtures for Window Insulation
- %Ar/Kr、%O2/Kr、%O2+%Kr/Argon、%Xe/Kr
*Gas Mixtures for Plasma Display Panel
- %Ar/Ne (for CCFL)、%Kr/Ne、%Xe/He、%Xe/Ne
Ⅳ.其它類:
- Methane (CH4)、Methanol (CH3OH)、1,3-Butadiene (1,3-C4H6)、Potassium Hydrate (KOH)
、Hydrogen Sulfide(H2S)
V.High Purity Hydrogen Production Module
