功能快速去除晶圓上之殘留光阻，達到晶圓表面潔淨，蝕刻率同業最高特色‧處理均勻性佳‧離子能量低、不損傷基板‧沒有電極及基板的汙染‧專利設計之特殊電漿電極‧高密度電漿源 ˇ電漿效率高、清潔效率高 ˇ可控制低的離子能量 ˇ結合化學反應性及物理撞擊性‧處理速度快、清潔效率高、可靠度高‧操作範圍廣‧可使用多種製程氣體‧設備穩定高，容易維護‧可依客戶需求作更改應用產業‧殘餘光阻去除‧藍膜殘膠去除‧PSS 來料清潔製程