產品說明
商品說明：Etching機台STELLA為憑藉FOI的特有技術、利用Groovy ICP來處理300mm/8吋Wafer之高性能Etching機台。所謂Groovy ICP、是世界唯一的Narrow Gap Type ICP Plasma源 、它兼容並蓄了以往的CCP Plasma源及ICP Plasma源的優點、成為劃時代的Plasma源。STELLA藉此Groovy ICP plasma源、來處理HARC、Spacer、PAD等各種形状及High-k、Low-k膜等各種材料的蝕刻。由於Process Window廣泛、爲了可以做更廣範圍的條件設定、其Etching Rate擁有可包括從2 Micro/分到１Angstrom / 秒（60 Angstrom/分）之劃時代的性能。另外、也能夠完全處理FA(GEM、GEM300)。